開示特許一覧表(Ver.2711)

confidential

開示番号 発明の名称 発明の概要 出願番号 出願日
2711001 ジフルオロメチルチオ化試薬およびジフルオロメチルチオ-エナミン誘導体の製造方法 反応途中段階で、より活性化された構造に変換され、温和な条件下(常温常圧)でジフルオロメチルチオ化を可能とする。
様々な医・農薬の製造過程に見られる合成中間体であり、そのため、ジフルオロメチルチオ基を持つエナミンは、新しい合成中間体として有用である。
2015-203685 2015/10/15
2711002 グラフェンデバイスおよびその製造方法 基板移し替え工程を伴うことなく、欠陥の無いグラフェン層を所望の部位に形成できること、に加え、自己形成グラフェンデバイスの実現を可能とする。
非導電性/導電性基板に堆積させたアモルファスカーボン層上に、薄膜遷移金属層、厚膜遷移金属層からなる矩形パターンが形成され、加熱処理にて薄膜遷移金属層を厚膜遷移金属層側へ凝集させ、厚膜遷移金属層下のカーボン層に析出させたグラフェン層上に、電極用絶縁体を配し、電極用絶縁体にゲート電極を、ゲート電極を挟む両側にソース電極、レイン電極を、形成させる
2015-212450 2015/10/29

Warning: Use of undefined constant <新しい記事 - assumed '<新しい記事' (this will throw an Error in a future version of PHP) in /home/r2048223/public_html/kenkyukyoryokukai.nitep.co.jp/wp-content/themes/kyoryoku/single.php on line 23

Warning: Use of undefined constant 古い記事> - assumed '古い記事>' (this will throw an Error in a future version of PHP) in /home/r2048223/public_html/kenkyukyoryokukai.nitep.co.jp/wp-content/themes/kyoryoku/single.php on line 24